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#检测/量测

今日 6 条
今天10月8日周四
  1. Semiconductor Engineering 芯片与封装21

    FAaST 路线:通过电学工艺控制赋能先进封装

    半导体工艺控制正从视觉检测走向电学测量。先进封装中的残留电荷和静电累积难以被传统检测与量测手段发现,却会影响良率、器件可靠性和制造一致性;随着吸湿性薄膜、绝缘层和等离子体工艺的引入,这一问题愈发突出。Onto Innovation 给出了全晶圆映射和面板级高分辨率映射方案,可定位局部非均匀性与热点。

  2. Semiconductor Engineering 芯片与封装38

    Shift Left 让晶圆厂制造数据管理更复杂

    半导体晶圆厂借助设备传感器实时数据和 AI/ML 推理模型,将良率异常检测前移到工艺模块内部,以加速良率学习并改进先进过程控制(APC)。设备传感器参数从约每秒一次提升到每几十毫秒采样一次,数据种类较十年前至少增加 10 倍,部分晶圆厂每年产生数百 PB 数据。如何在 sub-second 处理的同时保留数据上下文与连通性,成为 shift left 带来的主要数据管理难题。

  3. Semiconductor Engineering 芯片与封装31

    如何弥补先进芯片的“可见性鸿沟”:检测、测试与数据关联

    先进芯片的每一种测试、检测与监测手段都存在物理、空间或时间上的盲区,没有任何单一技术能提供完整视图。Nordson、ZEISS、Teradyne 等厂商指出,焊点空洞、head-in-pillow 等缺陷可通过电测却导致早期失效,而 X-ray 在堆叠芯片与 TSV 检测上仍有精度、吞吐与分辨率之间的取舍。

  4. Semiconductor Engineering 芯片与封装26

    混合键合与先进封装的过程控制:如何在缺陷演变成昂贵失效前发现它们

    先进封装中缺陷随工序层层累积价值,特征尺寸缩小使检测要求逼近前道制程水平,涉及表面颗粒、侧壁裂纹、埋藏缺陷、微凸点异常和键合空洞等多类问题。厂商需要在统一工作流中组合高灵敏度 2D 检测、红外亚表面检测与 3D 量测等互补手段,兼顾灵敏度与产能,并通过有效分类把检测结果转化为可行动的工艺信息。