Carl Zeiss 与 ASML 发表 Hyper-NA EUV 光刻技术论文:数值孔径至少 0.75
Carl Zeiss SMT 与 ASML 的研究人员发表论文,提出数值孔径至少 0.75 的 Hyper-NA EUV 光刻方案,作为超越当前 0.55 NA High-NA 系统的路径。
Carl Zeiss SMT 与 ASML 的研究人员发表论文,提出数值孔径至少 0.75 的 Hyper-NA EUV 光刻方案,作为超越当前 0.55 NA High-NA 系统的路径。
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