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Semiconductor Engineering 芯片与封装· Siemens EDA·· 4 小时前AI 评分16

Calibre DE-Via:左移式过孔插入方法

Shift-Left DE-Via

AI 导读

Siemens 的 Calibre DesignEnhancer Via(DE-Via)通过自动化插入冗余过孔,应对物理设计中的过孔电阻、电迁移和布线密度问题,并保证布局修改 DRC 无违规。该左移方法在设计早期提升过孔鲁棒性,减少后期 signoff 迭代,同时识别易短路区域并避开插入,以保持生产效率和问题可见性。

正文 · AI 翻译

面向 Calibre 的通孔自动插入,实现抗短路、可签核的物理设计。

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物理设计团队面临通孔电阻、电迁移和布线密度方面的挑战。Calibre DesignEnhancer Via(DE-Via)可自动插入额外通孔,确保版图修改通过 DRC 检查。

这种左移方法在设计周期早期提升通孔可靠性,减少后期的签核迭代。DE-Via 可识别易短路区域,避免在这些区域插入通孔,从而保持效率并让未解决问题保持可见。

你将了解:

  • 自动化通孔插入如何提升互连可靠性
  • 左移方法在物理设计中的优势
  • DE-Via 如何识别并规避易短路区域
  • DE-Via 如何集成到现有设计流程
  • 抗短路处理在通孔优化中的实际收益

适合阅读人群:

  • 物理设计工程师
  • CAD 工程师
  • 设计实现团队
  • 所有参与先进节点物理设计的人员

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来源: Semiconductor Engineering 芯片与封装 · semiengineering.com