Carl Zeiss 与 ASML 发表 Hyper-NA EUV 光刻技术论文：数值孔径至少 0.75

Carl Zeiss SMT 与 ASML 的研究人员发表论文，提出数值孔径至少 0.75 的 Hyper-NA EUV 光刻方案，作为超越当前 0.55 NA High-NA 系统的路径。