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中科院等研究 Pt-W 合金作为更薄 High-NA EUV 掩模吸收层
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AI 综述
中科院、吉林大学等机构的研究团队发表论文，评估 Pt-W 合金作为下一代低 n 值 EUV 掩模吸收层的薄膜特性与成像性能。该成果发表于 2026 年 8 月的 iScience。研究显示，Pt-W 合金有望用于更薄的高 NA（High-NA）EUV 掩模吸收层，为下一代 EUV 光刻掩模材料提供了一种候选方案。目前该成果处于学术研究阶段，尚无量产应用的报道。
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最新进展10月26日 05:17
2026 年 10 月 26 日报道了该团队关于 Pt-W 合金掩模吸收层的研究成果。报道时间线
沿着报道，了解事件的不同侧面。
10月26日
- Semiconductor Engineering 芯片与封装中科院等团队研究 Pt-W 合金作为低 n 值 EUV 掩模吸收层，有望支持更薄的高 NA EUV 掩模
中科院、吉林大学等机构的研究团队发表论文，评估 Pt-W 合金作为下一代低 n 值 EUV 掩模吸收层的薄膜特性与成像性能。该成果发表于 2026 年 8 月的 iScience，显示 Pt-W 合金有望用于更薄的高 NA EUV 掩模吸收层。
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