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干法沉积ZIF光刻胶在EUV与电子束曝光下呈现不同极性转换
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2026年10月26日报道，KU Leuven、群山国立大学、布鲁塞尔自由大学和imec等机构的研究人员在ACS Applied Materials & Interfaces发表论文，报道了一种完全通过干法沉积的卤化非晶沸石咪唑酯骨架（a-ZIF）金属有机光刻胶。该光刻胶可用于下一代半导体制造中的先进图案化工艺，在电子束与EUV两种曝光源下表现出显著的、随辐照源变化的极性（tone）转换行为。
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10月26日
- Semiconductor Engineering 芯片与封装KU Leuven 等研究发现干法沉积光刻胶在 EUV 与电子束曝光下呈现不同的极性转换行为
KU Leuven、群山国立大学、布鲁塞尔自由大学和 imec 等机构的研究人员在 ACS Applied Materials & Interfaces 发表论文，报道了一种完全通过干法沉积的卤化非晶沸石咪唑酯骨架（a-ZIF）金属有机光刻胶，可用于下一代半导体制造中的先进图案化工艺。该光刻胶在电子束与 EUV 两种曝光源下表现出显著的、随辐照源变化的极性（tone）转换行为。
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